BAIKOWSKI 株式会社バイコウスキージャパン

沿革

バイコウスキージャパン沿革

1988年
極東地域におけるバイコウスキーグループの販売、物流拠点として千葉県船橋市にて設立
1992年
グループ外結晶製品の輸入販売開始
1998年
千葉県習志野市に本社工場設立
アルミナ、セリアCMPスラリーの本格的製造を開始
1999年
最先端材料の表面研磨技術の研究を強化
半導体CMPスラリーの半自動生産設備を導入
2000年
コンピューターハードディスク研磨用スラリーの自動生産設備完成
磁気ヘッド用CMPスラリーの開発、生産を本格化
2006年
ハードディスクスラリーの生産能力増強
2007年
新本社工場が稼動。半導体CMPスラリーの自動生産ラインを増設
スラリーの生産増強、品質の向上に注力
2008年
フランス ローディア社酸化セリウムの販売開始
2009年
CMPテストラボを開設し、半導体、磁気ヘッド、先端材料用スラリーの開発を強化
2010年
韓国にバイコウスキーフランスと合同で拠点設立

バイコウスキー沿革

1904年
ベルヌイ法による単結晶サファイア、ルビー製造会社としてバイコウスキー氏によりパリ近郊で設立される。設立と同時に、単結製造原料として高純度アルミナの製造を開始
1919年
水素、酸素ガス製造の電気分解用電力の安定確保のため、現在のサヴォア県アネシー市(ジュネーブより南西に約40km)に移転
1965年
ウラン分離用セラミックスフィルター製造用のアルミナおよびスピネル粉末の開発を委託される。
フランスの原子力機関(CEA)に納入
1975年
高圧ナトリウムランプに使用される透光性セラミチューブ製造用高純度アルミナを開発
現在も世界の主要ランプメーカーに納入
1995年
半導体CMP、ハードディスク研磨用微粒アルミナ粉末およびスラリーを開発
2001年
アルコア社高純度アルミナ部門(旧レイノルズ社)を買収
2007年
原料合成から解砕までの全工程の能力を大幅に拡大
2010年
バイコウスキーコーリア(韓国)設立